NVIDIA：開普勒良品率在提高
2012-08-15 20:06:31 本站原創雖然比對手遲到了很久，NVIDIA的新一代開普勒架構產品還是倍受矚目和歡迎，但苦惱的是，臺積電28nm工藝的產能一直跟不上，開普勒本身的良品率初期也是個大問題。
臺積電已經承認，28nm工藝今年是滿足不了客戶需求了，NVIDIA自然也拿不到足夠的開普勒芯片，直接影響收入和利潤。
黃仁勛說：“我們預計本季度的(28nm GPU)供應會持續吃緊，第四季度的情況到時候再說。顯然，這是產能分配、良品率和市場需求的多方面問題，存在很多變數。迄今為止，市場需求很旺盛。”
不過好消息是，至少開普勒本身的問題正在解決，良品率也在逐步提高。
黃仁勛表示：“當我們采購晶圓的時候，利潤率會受到良品率的很大影響。如果有任何可以提升良品率的措施，我們都不會放過。28nm的良品率比40nm還有很大的改進空間。隨著我們在28nm上越走越遠、越走越遠，以及良品率的提升，利潤率也會得到改善。……臺積電已經在竭盡所能改進良品率了。在增加產能滿足所有客戶需要方面，臺積電已經做得不能再好了。”
