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中芯國際攻關3D集成電路工藝

2013-10-24 17:11:09 本站原創
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作為國內最大、最先進的半導體制造商,中芯國際(SMIC)已經成立了新的“視覺、傳感器與3D集成電路”(CVS3D)研發中心,集中力量重點攻關硅傳感器、TSV硅通孔和其它中端晶圓處理(MEWP)技術。

為了進一步提升晶體管集成度,業內正在普遍上馬基于TSV技術的2.5D、3D半導體工藝,涵蓋CPU處理器GPU圖形核心、內存、閃存等等。

調研機構認為,TSV晶圓今年的出貨量會有大約135萬塊(折合300毫米晶圓),2017年將猛增至958萬塊,年復合增長率63%。

另外到2017年的時候,會有約63%的晶圓用于邏輯3D SiP(系統級封裝)/SoC(片上系統)、MEMS傳感器、射頻/混合信號、CIS圖像傳感器相關的集成電路,而這些在智能手機、平板機系統中都是至關重要的零部件。

中芯國際表示,其中一位客戶已經開始使用CVS3D技術進行生產,還有多位客戶的產品正在認證中。

此外,中芯國際今天還公布了截止9月30日的2013年第三季度業績(包含武漢新芯的晶圓轉單銷售額):收入5.343億元,同比增長15.8%,環比下降1.3%,其中中國區占創新高的42.1%,同比提高6.8個百分點,環比提高1.2個百分點。

毛利率21.0%,同比下降6.5個百分點,環比下降4.0個百分點。

凈利潤4250萬元,去年同期為1200萬元,上季度為7540萬元。

三季度,40nm工藝貢獻的銷售額環比增長了50.3%,占總收入的15.7%,主要是智能手機相關產品帶動。

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