IWAPS 2023 | 第七屆國際先進光刻技術研討會舉辦時間通知
2023-06-13 16:55:49 EETOP 近年來，集成電路產業已經成為世界各國越來越重視的戰略性產業，尤其在中國，集成電路產業受到了前所未有的關注，并在政策和資本的推動下獲得了蓬勃發展。基于這樣的形勢，國際先進光刻技術研討會(International Workshop on Advanced Patterning Solutions, IWAPS)應運而生。IWAPS為來自國內外半導體工業界、學術界的資深技術專家和優秀研究人員等提供了一個技術交流平臺，參會者可以就材料、設備、工藝、測量、計算光刻和設計優化等主題分享各自的研究成果，探討圖形化解決方案，研討即將面臨的技術挑戰。
自2017年以來，IWAPS已經在全國各地成功舉辦六屆。會議投稿、會議報告與參會人數逐年增加，行業反響熱烈，業已成為國內高端光刻技術領域的重要會議。此外，IWAPS自2020年起已被IEEE收錄，接收論文將被送檢IEEE Xplore與EI。歡迎大家踴躍報名、投稿！
第七屆IWAPS將于2023年10月26-27日于浙江麗水舉行
歡迎各位學術和產業屆的朋友蒞臨指導，積極投稿演講
參會名額有限，有意者請及時報名參會
官網報名鏈接：
https://www.iwaps.org/cn/index/10
（點擊閱讀原文可跳轉鏈接）
掃碼報名
手機掃描二維碼，通過邀請函報名
-主辦單位-
中國集成電路
創新聯盟
中國光學學會
-承辦單位-
中國科學院微電子研究所
-協辦單位-
麗水經濟技術開發區
管理委員會
浙江富浙資本
管理有限公司
廣東省大灣區集成電路與系統應用研究院
南京誠芯集成電路技術研究院
-往屆精彩回顧-
IWAPS 2017 北京
IWAPS 2018 廈門
鏈接：第二屆國際先進光刻技術研討會勝利閉幕
IWAPS 2019 南京
鏈接：第三屆國際先進光刻技術研討會在南京開幕
IWAPS 2020 成都
鏈接：第四屆國際先進光刻技術研討會在成都開幕
IWAPS 2021 佛山
鏈接：第五屆國際先進光刻技術研討會在廣東佛山開幕
IWAPS 2022 北京 線上
-征稿范圍-
i. Optical Lithography
ii. Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography
iii. Advanced Patterning Technologies
iv. Metrology, Inspection and Testing
v. Design and Technology Co-optimization and Design for Manufacturability
vi. Materials
vii. Process
-往年論文集-
IWAPS 2020：
https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9286788/proceeding
IWAPS 2021：https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9670881/proceeding
IWAPS 2022:
https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9971792/proceeding
IWAPS 2023 會議籌備工作已經展開
更多信息，敬請關注會議官網
www.iwaps.org/cn
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https://www.iwaps.org/cn/index/10
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