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臺積電試產5納米!三星望塵莫及

2019-04-04 15:03:38 EETOP
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晶圓代工廠臺積電昨天宣布,5納米制程已進入試產階段,在開放創新平臺下推出完整的5納米設計架構,協助客戶實現5G人工智能的5納米系統單芯片設計。臺積電表示,相較7納米制程,5納米的微縮功能在安謀(ARM)的Cortex-A72核心上能夠提供1.8倍的邏輯密度,速度增快15%。

5納米制程還具有極紫外光(EUV)微影技術所提供的制程簡化效益,臺積電指出,5納米制程能提供芯片設計業者全新等級的效能及功耗解決方案,支援下一世代的高階行動及高效能運算應用產品。臺積電研究發展與技術發展副總經理侯永清表示,在5納米世代,設計與制程需要密切的共同最佳化,臺積電與設計生態系統伙伴緊密合作,確保在客戶需要時能提供經由驗證的硅智財組合與電子設計自動化工具。臺積電與Cadence、Synopsys、Mentor Graphics及ANSYS,透過臺積電的開放創新平臺電子設計自動化驗證專案,進行全線電子設計自動化工具的驗證。臺積電指出,5納米設計架構包括5納米設計規則手冊、制程設計套件及通過硅晶驗證的基礎與界面硅智財,并且全面支援通過驗證的電子設計自動化工具及設計流程。

三星望塵莫及

根據目前全球芯片制程工藝的分布來看,能夠具備7nm一下制程研發生產能力的企業目前僅有臺積電、三星以及英特爾。而臺積電率先搶占7nm制程高地,為企業帶來了豐厚的利潤回報和技術儲備。

臺積電制程技術已經把三星甩在身后,后者預計2020年才會進入7nm EUV時代。

臺積電支持極紫外光(EUV)微影技術的7nm加強版(7nm+)制程已經按原計劃于3月底量產,全程采用EUV技術的5nm制程已經進入試產階段。

臺積電制程工藝規劃

報道稱5nm制程享有極紫外光微影技術所提供的制程簡化效益,同時也在良率上有明顯改善,相較于臺積電前幾代制程,5nm制程達到了最佳技術成熟度。

雖然目前三星已經先不7nm EUV制程進入量產,但是至今尚未投入使用。三星公布的資料顯示,華城廠區預計2019年底才會全面完工,這意味著7nm EUV制程真正大量生產要等到2020年年中。

如果臺積電能夠按照計劃率先實現5nm制程量產,那么無疑蘋果、高通、NVIDIA等都不會冒險向三星下訂單,而AMD早已宣布7nm以下全面擁抱臺積電。業內人士預計,砸下重金投入7nm以下制程的三星勢必會通過打價格戰搶奪客戶資源。 

 

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